【摘要】本發明涉及一種硅納米線陣列的制備方法，屬于 納米材料制備技術領域。所述方法將硅片依次經過丙酮振蕩清 洗、酒精振蕩清洗、酸性清洗液和標準清洗1號溶液處理；然 后將質量百分比濃度范圍為0.01％－0.9％的聚苯乙烯小球溶 液用微量可調移
【專利類型】外觀設計 【申請人】航天信息股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】100086北京市海淀區中關村南大街二號數碼大廈A座30層 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200630008976.X 【申請日】2006-04-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3602664D 【公開公告日】2007-01-24 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3602664D 【授權公告日】2007-01-24 【授權公告年份】2007.0 【發明人】陳懿; 孫葆清; 陳浩; 劉東娜; 王堃 【主權項內容】無 【當前權利人】航天信息股份有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區中關村南大街二號數碼大廈A座30層 【專利權人類型】其他股份有限公司(上市) 【統一社會信用代碼】91110000710927388B
未經允許不得轉載：http://www.mhvdw.cn/1776231927.html
喜歡就贊一下
