【摘要】一種雙軸式板對板旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，由第一軸桿與第二軸桿分別利用數(shù)個固定桿、數(shù)個后襯墊、數(shù)個內(nèi)墊套與數(shù)個固定元件等構(gòu)件以多點(diǎn)方式將玻璃或板材穩(wěn)固連接，并令第一軸桿與第二軸桿所分別連接的玻璃或板材相互之間得以從0度到180度的角度范圍內(nèi)自由旋轉(zhuǎn)
【摘要】 本發(fā)明涉及一光阻層涂布在陣列基板上，利用光罩移轉(zhuǎn)檢測線路的引線的圖案后，接著再一次曝光將陣列基板外圍光阻層去除，可有效解決金屬殘余造成的檢測信號短路問題，并且不會增加光罩的曝光次數(shù)。。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中華映管股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣桃園縣八德市 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610084865.6 【申請日】2006-05-23 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101080143A 【公開公告日】2007-11-28 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100515160C 【授權(quán)公告日】2009-07-15 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號】H05K3/06; H05K3/26 【發(fā)明人】陳紫瑜; 黃金海 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種去除基板外圍金屬殘余的方法，其特征在于，包括步驟： 沉積一導(dǎo)電層在一基板上，該導(dǎo)電層在該基板上設(shè)有數(shù)個檢測線 路延伸至該基板外緣； 涂布一光阻層在該基板上； 對該光阻層進(jìn)行曝光將該檢測線路上的光阻去除，再對該基板進(jìn) 行外圍曝光，最后產(chǎn)生一光阻圖案； 對該光阻圖案進(jìn)行顯影，并以該光阻圖案作為蝕刻液的屏障，進(jìn) 行金屬蝕刻，將該導(dǎo)電層不需要的區(qū)域去除；及 將該光阻圖案剝離，進(jìn)行后續(xù)清洗。 【當(dāng)前權(quán)利人】中華映管股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣桃園縣八德市 【被引證次數(shù)】3 【被他引次數(shù)】3.0 【家族引證次數(shù)】5.0 【家族被引證次數(shù)】3
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載：http://www.mhvdw.cn/1776932411.html
喜歡就贊一下
