【摘要】一種升降機械的油壓驅動裝置，其是包含一缸體，該缸體內設有一活塞與一活塞桿，而該活塞內設有一通道與一容置空間，該容置空間內設有一單向閥與一彈簧，該彈簧是用以頂推該單向閥向上，以使得該單向閥上的一閥塞能密接于該通道的底部；其中，該缸體內
【摘要】 本發明是有關于一種高密度電漿化學氣相沉積 反應器及方法。該高密度電漿化學氣相沉積方法，首先，激發 一氣體混合物，以產生具有復數個離子的電漿，且引導電漿至 一半導體晶圓上的密集區域中。接著，以額外的熱源加熱半導 體晶圓。最后，于半導體晶圓上沉積電漿中的一物質。該高密 度電漿化學氣相沉積反應器包括一反應室；一激發源，用以激 發一氣體混合物；一半導體晶座，用以承載一半導體晶圓；以 及額外的一加熱元件，設置于該反應室內，以提供熱能來加熱 該半導體晶圓。本發明可改善現有的高密度電漿化學氣相沉積 方法。 （，） 【專利類型】發明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610127751.5 【申請日】2006-09-01 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1940129A 【公開公告日】2007-04-04 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN1940129B 【授權公告日】2011-04-20 【授權公告年份】2011.0 【發明人】劉中偉; 劉滄宇; 林劍鋒; 張振涼; 陳明德; 林嘉慧; 蔡瑛修; 吳斯安; 李音頻 【主權項內容】1、一種高密度電漿化學氣相沉積方法，其特征在于其包括如下步驟： 激發一氣體混合物，以產生具有復數個離子的一電漿，且引導該電漿 至一半導體晶圓上的一密集區域中； 以額外的一加熱源加熱該半導體晶圓；以及 沉積該電漿中的一物質于該半導體晶圓上。 【當前權利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 【被引證次數】2 【家族被引證次數】25
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