【摘要】本實用新型公開一種砂帶，尤指一種具有不同粗 細磨粒并行排列布設的新穎砂帶結構設計，以可一次滿足工件 的磨削需要，有效增進磨削作業的效率，充分發揮其優異的使 用效能。本實用新型主要是在砂帶的帶體上分別并行排列布設 以不同粗細號數的磨粒
【摘要】 一種使用兩階段調整的最佳化寫入策略參數的 系統及方法。所述方法包括：執行第一類的寫入策略參數最佳 化作業，來調整寫入策略的至少一個靜態寫入策略參數。在執 行第一類寫入策略參數最佳化作業后執行第二類的寫入策略 參數最佳化作業，來調整寫入策略的至少一個動態寫入策略參 數。靜態寫入策略參數相應于光盤上的一個凹洞(pit)的單一長 度并且動態寫入策略參數用以克服當產生凹洞時的熱干涉效 應。 【專利類型】發明申請 【申請人】聯發科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省新竹科學工業園區 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610121969.X 【申請日】2006-08-30 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1925021A 【公開公告日】2007-03-07 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100424761C 【授權公告日】2008-10-08 【授權公告年份】2008.0 【發明人】朱志雄; 游志青 【主權項內容】1.一種使用兩階段調整的最佳化寫入策略參數的方法，用以記錄多個圖 案于一光盤上，其特征在于包括： 執行一第一類的寫入策略參數最佳化作業，用于調整一寫入策略中至少 一第一類寫入策略參數；以及 在執行上述第一類寫入策略參數最佳化作業后執行一第二類的寫入策 略參數最佳化作業，用于調整上述寫入策略的至少一第二類寫入策略參數； 其中上述第一類及第二類寫入策略參數中的一個相應于每一單一圖案， 并且寫入策略參數中的另一個相應于每一圖案組合。 【當前權利人】聯發科技股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省新竹科學工業園區
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