【摘要】一種曝光機(jī)機(jī)差的測量方法，此方法通過將一對預(yù)先制作的匹配光掩模及匹配晶片分別配置在兩個(gè)機(jī)器中進(jìn)行曝光，并將兩個(gè)機(jī)器曝光所得的曝光圖像相減，而消除該匹配光掩模及匹配晶片本身所造成的誤差，從而獲得兩機(jī)器間更準(zhǔn)確的機(jī)差值，達(dá)到有效掌控機(jī)器
【摘要】 一種走線彈片結(jié)構(gòu)，其安裝在主機(jī)板上，以固定線材，該走線彈片由板體一體彎折成走線部及吸附部，走線部的底板固定在主機(jī)板上，且走線部呈環(huán)狀恰能整個(gè)包覆住線材，使線材無法任意移動(dòng)。在走線部一端形成有開口，使線材從開口處套入于走線部內(nèi)，而吸附部則從走線部的一端向上彎折延伸，使吸附部在走線部的上方處形成較大面積的水平吸附板，以供吸附工具將走線彈片吸附至主機(jī)板上作回焊固定。 （，） 【專利類型】實(shí)用新型 【申請人】锽鐿工業(yè)有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺(tái)灣 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺(tái)灣省 【申請?zhí)枴緾N200620122935.8 【申請日】2006-08-04 【申請年份】2006 【公開公告號(hào)】CN200947708Y 【公開公告日】2007-09-12 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN200947708Y 【授權(quán)公告日】2007-09-12 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號(hào)】H05K7/12 【發(fā)明人】曾馨源 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種走線彈片結(jié)構(gòu)，所述走線彈片安裝在主機(jī)板上，以固定線材，其特征在于， 所述走線彈片由板體一體彎折成走線部及吸附部，走線部包括底板，底板固定在主機(jī)板上，所述走線部具有開口，使線材從開口處套入于走線部內(nèi)，并由走線部緊包覆住線材；以及，所述吸附部從走線部的一端向上彎折延伸，且吸附部在走線部的上方處形成平面的水平吸附板。 【當(dāng)前權(quán)利人】锽鐿工業(yè)有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺(tái)灣 【被引證次數(shù)】1 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1
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