【摘要】一種大型激光雕刻機(jī)的控制調(diào)光裝置，供設(shè)置在大型激光雕刻機(jī)的機(jī)臺(tái)上，用以控制激光光路的輸出，所述的控制調(diào)光裝置是包括一調(diào)光器以及一連接線材，所述的調(diào)光器設(shè)有可控制激光管啟動(dòng)光路的控制開關(guān)，而所述的連接線材是連接在調(diào)光器與激光雕刻機(jī)的激
【摘要】 一種曝光機(jī)機(jī)差的測(cè)量方法，此方法通過將一對(duì)預(yù)先制作的匹配光掩模及匹配晶片分別配置在兩個(gè)機(jī)器中進(jìn)行曝光，并將兩個(gè)機(jī)器曝光所得的曝光圖像相減，而消除該匹配光掩模及匹配晶片本身所造成的誤差，從而獲得兩機(jī)器間更準(zhǔn)確的機(jī)差值，達(dá)到有效掌控機(jī)器間變化的目的。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】力晶半導(dǎo)體股份有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】中國臺(tái)灣新竹市 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國 【申請(qǐng)人城市】臺(tái)灣省 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610005895.3 【申請(qǐng)日】2006-01-19 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN101004554A 【公開公告日】2007-07-25 【公開公告年份】2007 【IPC分類號(hào)】G03F7/20 【發(fā)明人】林柏青 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種曝光機(jī)機(jī)差的測(cè)量方法，適于測(cè)量待測(cè)機(jī)器的機(jī)差，該測(cè)量方 法包括下列步驟： 利用匹配光掩模及匹配晶片在對(duì)照機(jī)器曝光，獲得第一圖像； 利用該匹配光掩模及該匹配晶片在該待測(cè)機(jī)器曝光，獲得第二圖像； 將該第二圖像與該第一圖像相減，獲得第三圖像；以及 移除該第三圖像的線性誤差，獲得該機(jī)差。 【當(dāng)前權(quán)利人】力晶半導(dǎo)體股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺(tái)灣新竹市 【被引證次數(shù)】8 【被他引次數(shù)】8.0 【家族被引證次數(shù)】8
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