【摘要】一種可以修整拋光晶片平整度的拋光頭，其特征在于，包括：一晶片固定盤；一上拋光盤，該上拋光盤的斷面為倒T形；一氣囊，該氣囊固定在上拋光盤的底面，該氣囊可以充氣；一拋光墊，該拋光墊固定在氣囊的底面；欲將晶片拋光時(shí)，將氣囊充氣，將晶片固定
【專利類型】外觀設(shè)計(jì) 【申請(qǐng)人】方衛(wèi)紅 【申請(qǐng)人類型】個(gè)人 【申請(qǐng)人地址】100039北京市海淀區(qū)西翠路今日家園7棟507室 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200630021871.8 【申請(qǐng)日】2006-07-13 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN3647208D 【公開公告日】2007-05-16 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN3647208D 【授權(quán)公告日】2007-05-16 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】方衛(wèi)紅 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】方衛(wèi)紅 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)西翠路今日家園7棟507室
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載：http://www.mhvdw.cn/1776144602.html
喜歡就贊一下
