【摘要】本發(fā)明提供一種能夠用于高精度拋光加工的納 米單晶金剛石，例如，用于電腦硬盤的紋理加工等，其特征在 于：該納米單晶金剛石是將粒度大于納米級的單晶金剛石顆粒 通過球磨粉碎制成。本發(fā)明還提供一種上述納米單晶金剛石的 制造方法，包括以下步驟
【摘要】 （，） 。一種防閃電回閃保護(hù)裝置，它涉及一種防雷裝置。本實用新型它由金屬大氣電極(1)、專用變阻抑制器(2)、靜電屏蔽環(huán)(3)、支柱(4)組成，金屬大氣電極(1)設(shè)置在專用變阻抑制器(2)的上方，靜電屏蔽環(huán)(3)設(shè)置在專用變阻抑制器(2)的下方，支柱(4)將金屬大氣電極(1)、專用變阻抑制器(2)、靜電屏蔽環(huán)(3)貫穿固定在一起。本實用新型主要解決了當(dāng)前避雷裝置存在的一些問題。 【專利類型】實用新型 【申請人】劉秋成; 錢昌發(fā); 孟旭旭 【申請人類型】個人 【申請人地址】100037北京市海淀區(qū)景王墳3號樓1505室 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200620115493.4 【申請日】2006-05-18 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2938340Y 【公開公告日】2007-08-22 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN2938340Y 【授權(quán)公告日】2007-08-22 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號】H01C7/12; H01C7/108; H01C7/105 【發(fā)明人】劉秋成; 錢昌發(fā); 孟旭旭 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種防閃電回閃保護(hù)裝置，其特征在于它由金屬大氣電極(1)、 專用變阻抑制器(2)、靜電屏蔽環(huán)(3)、支柱(4)組成，金屬大氣電極(1) 設(shè)置在專用變阻抑制器(2)的上方，靜電屏蔽環(huán)(3)設(shè)置在專用變阻抑 制器(2)的下方，支柱(4)將金屬大氣電極(1)、專用變阻抑制器(2)、靜 電屏蔽環(huán)(3)貫穿固定在一起。 【當(dāng)前權(quán)利人】劉秋成; 錢昌發(fā); 孟旭旭 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)景王墳3號樓1505室; ; 【被引證次數(shù)】9 【被他引次數(shù)】9.0 【家族被引證次數(shù)】9
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