【摘要】本發(fā)明涉及農(nóng)藥殺蟲劑有效成分喹硫磷(A：英文通用名為quinalphos，化學(xué)名稱為O，O－二乙基－O－(喹喔啉－2－基)硫代磷酸酯)與雙甲脒(B：英文通用名為amitraz，化學(xué)名稱為N′－(2，4－二甲基苯基)－N－{[(2，4
【摘要】 一種可以修整拋光晶片平整度的拋光頭，其特征在于，包括：一晶片固定盤；一上拋光盤，該上拋光盤的斷面為倒T形；一氣囊，該氣囊固定在上拋光盤的底面，該氣囊可以充氣；一拋光墊，該拋光墊固定在氣囊的底面；欲將晶片拋光時，將氣囊充氣，將晶片固定在晶片固定盤上面，控制上拋光盤的轉(zhuǎn)動及上拋光盤的上下位移，由拋光墊對晶片拋光。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100083北京市海淀區(qū)清華東路甲35號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610011400.8 【申請日】2006-03-01 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101028699A 【公開公告日】2007-09-05 【公開公告年份】2007 【發(fā)明人】朱蓉輝; 惠峰; 卜俊峰; 鄭紅軍; 趙冀 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種可以修整拋光晶片平整度的拋光頭，其特征在 于，包括： 一晶片固定盤； 一上拋光盤，該上拋光盤的斷面為倒T形； 一氣囊，該氣囊固定在上拋光盤的底面，該氣囊可以充氣； 一拋光墊，該拋光墊固定在氣囊的底面； 欲將晶片拋光時，將氣囊充氣，將晶片固定在晶片固定盤 上面，控制上拋光盤的轉(zhuǎn)動及上拋光盤的上下位移，由拋光墊 對晶片拋光。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)清華東路甲35號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000400012385U 【被引證次數(shù)】TRUE 【家族被引證次數(shù)】TRUE
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