【摘要】本發(fā)明一種提高氧化鋁砷化鎵分布布拉格反射鏡界面質(zhì)量的方法，其特征在于，包括如下步驟：(A)在半絕緣砷化鎵(100)襯底上，使用分子束外延的方法外延生長(zhǎng)200nm的砷化鎵緩沖層；(B)在砷化鎵緩沖層上生長(zhǎng)7個(gè)周期的砷化鋁砷化鎵分布布拉
【專利類型】外觀設(shè)計(jì) 【申請(qǐng)人】北京愛德發(fā)高科技中心 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】100080北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路68號(hào)左岸工社815-822 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200630138131.2 【申請(qǐng)日】2006-10-11 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN3673773D 【公開公告日】2007-07-25 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN3673773D 【授權(quán)公告日】2007-07-25 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】謝曉光 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】無(wú) 【當(dāng)前權(quán)利人】北京愛德發(fā)科技有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路68號(hào)雙橋大廈8層815
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