【摘要】本發明一種提高氧化鋁砷化鎵分布布拉格反射鏡界面質量的方法，其特征在于，包括如下步驟：(A)在半絕緣砷化鎵(100)襯底上，使用分子束外延的方法外延生長200nm的砷化鎵緩沖層；(B)在砷化鎵緩沖層上生長7個周期的砷化鋁砷化鎵分布布拉
【摘要】 俯視圖、仰視圖無設計要點，省略俯視圖、仰視圖。 【專利類型】外觀設計 【申請人】宋耀明 【申請人類型】個人 【申請人地址】100025北京市朝陽區建國路89號華貿中心16號樓 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN200630133969.2 【申請日】2006-06-06 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3623019D 【公開公告日】2007-03-21 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3623019D 【授權公告日】2007-03-21 【授權公告年份】2007.0 【發明人】宋耀明 【主權項內容】無 【當前權利人】宋耀明 【當前專利權人地址】北京市朝陽區建國路89號華貿中心16號樓
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