【摘要】一種掩模層的形成方法，首先，提供一基底。再于基底上形成掩模層。然后，將掩模層圖案化，以形成圖案化掩模層，并裸露部分基底的表面。接著，進行圓弧化工藝，以圓弧化圖案化掩模層的頂部邊角。【專利類型】發明申請【申請人】力晶半導體股份有限公司
【摘要】 1.仰視圖無設計要點，省略仰視圖。 2.請求保護的外觀設計包含色彩。 【專利類型】外觀設計 【申請人】統一企業股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省臺南縣永康市鹽行中正路301號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200630098778.7 【申請日】2006-11-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300689134D 【公開公告日】2007-09-12 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300689134D 【授權公告日】2007-09-12 【授權公告年份】2007.0 【發明人】林隆義 【主權項內容】無 【當前權利人】統一企業中國控股有限公司 【當前專利權人地址】英屬開曼群島喬治鎮南教堂路309郵政信箱
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