【摘要】本發(fā)明涉及一種具旁通回流的廢氣處理裝置，該廢氣處理裝置包括：一氣流入口、一冷凝器、一風(fēng)扇以及一旁通閥。冷凝器入口與氣流入口相通，風(fēng)扇入口與冷凝器氣流出口相通，旁通閥出口與冷凝器入口相通，旁通閥入口與風(fēng)扇出口相通。其中，風(fēng)扇強(qiáng)制開啟后
【摘要】 本發(fā)明公開了一種高光取出率的固態(tài)發(fā)光元件，包括：一圖案化藍(lán)寶石單晶基材、一疊置于該圖案化藍(lán)寶石單晶基材并為六方晶系的緩沖層，及一疊置于該緩沖層的固態(tài)發(fā)光件。該圖案化藍(lán)寶石單晶基材具有多數(shù)個凹槽定義面以定義出多數(shù)個凹槽。每一凹槽定義面具有三依序連接的傾斜側(cè)面部及四依序連接的傾斜側(cè)面部其中一者。該緩沖層具有一連接該圖案化藍(lán)寶石單晶基材的第一層區(qū)及多數(shù)個分別填置于所述凹槽內(nèi)的第二層區(qū)。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】武東星 【申請人類型】個人 【申請人地址】臺灣省臺中市南區(qū)美村南路107巷30弄50號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610087027.4 【申請日】2006-06-12 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101090143A 【公開公告日】2007-12-19 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100490196C 【授權(quán)公告日】2009-05-20 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號】H01L33/00; H01L33/20 【發(fā)明人】武東星; 洪瑞華; 王偉凱; 文國昇 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種高光取出率的固態(tài)發(fā)光元件，其特征在于其包括： 一具有多數(shù)個凹槽定義面以定義出多數(shù)個凹槽的圖案化藍(lán)寶石單晶基材， 每一凹槽定義面具有三依序連接的傾斜側(cè)面部及四依序連接的傾斜側(cè)面部其中 一者； 一疊置于該圖案化藍(lán)寶石單晶基材并為六方晶系的緩沖層，具有一連接該 圖案化藍(lán)寶石單晶基材的第一層區(qū)及多數(shù)個分別填置于所述凹槽內(nèi)的第二層 區(qū)；及 一疊置于該緩沖層的固態(tài)發(fā)光件。 【當(dāng)前權(quán)利人】國立中興大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣臺中市南區(qū)國光路250號 【引證次數(shù)】1.0 【被引證次數(shù)】17 【他引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】17.0 【家族引證次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】17
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