【摘要】本發明是有關于一種利用超臨界流體處理的雙 鑲嵌結構及其形成方法，該方法是提供一單一制程，以去除光 阻同時避免及修補電漿蝕刻損傷，并且移除該介電層中的吸收 水氣。該方法包括提供一基底，包括一最上層的光阻層以及一 開口延伸穿過一金屬層間
【摘要】 本實用新型公開了一種改良的光滑表面吸附撐 持裝置，其包括一具有光滑表面的膜片、一連接于膜片一端面 上的基座、一罩設于基座上并設置有圖樣或造型的罩蓋，以及 穿設于罩蓋及基座的支持架；實質上，該基座具有一定結部， 支持架具有一端朝一方向伸展成型的掛置部，用以掛設物品， 另一端則包含有一相對定結部，而該相對定結部可定著于基座 的定結部中，形成一定位狀態，使該罩蓋及支持架為一可隨使 用者需求或喜好而更換。 【專利類型】實用新型 【申請人】林能松 【申請人類型】個人 【申請人地址】臺灣省臺中縣龍井鄉新莊村新仁路30巷8號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200620049941.5 【申請日】2006-01-26 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2883765Y 【公開公告日】2007-03-28 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN2883765Y 【授權公告日】2007-03-28 【授權公告年份】2007.0 【發明人】林能松 【主權項內容】1.一種改良的光滑表面吸附撐持裝置，包括一膜片、 一連接于膜片的基座、一罩設于基座上并設置有圖樣或造 型的罩蓋，以及穿設于罩蓋及基座的支持架，其特征在于： 該基座具有一定結部，支持架包含有一可定著于基座的定 結部中的相對定結部，該罩蓋及支持架可隨需求或喜好而 更換。。 【當前權利人】林能松 【當前專利權人地址】臺灣省臺中縣龍井鄉新莊村新仁路30巷8號
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