【摘要】本實用新型公開一種可更換式電池的固定機構(gòu)， 該固定機構(gòu)包括第一扣合件及第二扣合件，將電池裝置設(shè)置在 具有機殼的電子設(shè)備上。本實用新型的固定機構(gòu)是借由第一扣 合件及第二扣合件將電池裝置固定在電子設(shè)備上，其結(jié)構(gòu)簡 單，不需額外加裝零件，
【摘要】 本發(fā)明是有關(guān)于一種利用超臨界流體處理的雙 鑲嵌結(jié)構(gòu)及其形成方法，該方法是提供一單一制程，以去除光 阻同時避免及修補電漿蝕刻損傷，并且移除該介電層中的吸收 水氣。該方法包括提供一基底，包括一最上層的光阻層以及一 開口延伸穿過一金屬層間介電層的一厚度，以暴露一下方金屬 區(qū)域。進(jìn)行至少一超臨界流體處理以移除最上層的該光阻層。 此超臨界流 體處理包含超臨界二氧化碳、一輔溶劑、以及一添加物。此添 加物是選自由一金屬腐蝕抗劑及一金屬抗氧化劑所組成的群 組。此超臨界流體處理亦包含一選擇性介電絕緣層的化學(xué)鍵形 成劑。本發(fā)明可以減少電漿蝕刻損傷并且改善低介電值材料的 絕緣特性。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】臺灣省新竹市新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)力行六路8號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610083378.8 【申請日】2006-06-06 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1941321A 【公開公告日】2007-04-04 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100416796C 【授權(quán)公告日】2008-09-03 【授權(quán)公告年份】2008.0 【發(fā)明人】王靜亞; 曾偉雄; 羅冠騰; 汪青蓉 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種利用超臨界流體處理的雙鑲嵌結(jié)構(gòu)形成方法，其特征在于其包 括以下步驟： 提供一基底，其包括一最上層的第一光阻層以及一介層開口延伸穿過 一介電絕緣層的一厚度，以暴露一下方金屬區(qū)域； 進(jìn)行一包含超臨界二氧化碳的第一超臨界流體處理，以移除該第一光 阻層； 形成一樹脂層在該介電絕緣層上，并且填充該介層開口； 圖案化位于該樹脂層上的一第二光阻層，以在該介層開口上蝕刻形成 一溝槽開口； 蝕刻該溝槽開口；以及 進(jìn)行一包含超臨界二氧化碳的第二超臨界流體處理，以移除該第二光 阻層以及該樹脂層，以形成一雙鑲嵌開口。 【當(dāng)前權(quán)利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】臺灣省新竹市新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)力行六路8號 【被引證次數(shù)】7 【家族被引證次數(shù)】20
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