【摘要】一種利用斜坡式循環干燥的低溫干燥機，其主要系于低溫干燥機的干燥室設有斜坡式層流裝置，該斜坡式層流裝置系設有多個交錯斜坡狀設置的層流盤，并且利用原料循環裝置讓液態原料持續地循環通過斜坡式層流裝置的各層流盤，讓低溫干燥機的低溫干燥氣流與
【摘要】 一種晶片結構，其包括一晶片、至少一側邊焊墊排列以及多個凸塊，其中晶片具有一主動表面，而側邊焊墊排列配置于主動表面，且靠近主動表面的一側邊。側邊焊墊排列包括多個焊墊，且這些焊墊沿著側邊的延伸方向排列，而凸塊則是配置于焊墊上。其中，每一個凸塊包括一第一部分及一第二部分，第二部分沿一軸線與第一部分連接，而軸線與側邊的延伸方向垂直。此外，第一部分在側邊的延伸方向的寬度大于第二部分在側邊的延伸方向的寬度，且凸塊的第二部分介于與此凸塊相鄰的二凸塊其第一部分之間。 【專利類型】發明申請 【申請人】聯詠科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610086440.9 【申請日】2006-06-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101093819A 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100477191C 【授權公告日】2009-04-08 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】H01L23/485 【發明人】薛仁豪; 郭豐榮; 周文彬; 劉湘怡 【主權項內容】1、一種晶片結構，其特征在于其包括： 一晶片，具有一主動表面； 至少一側邊焊墊排列，配置于該主動表面，且靠近該主動表面的一側 邊，該側邊焊墊排列包括多個焊墊，該些焊墊沿著該側邊的延伸方向排列； 多個凸塊，配置于該些焊墊上，且該些凸塊沿著該側邊的延伸方向等 距排列，各該凸塊包括： 一第一部份；以及 一第二部份，沿一軸線與該第一部分連接，該第一部分在該側邊的延 伸方向的寬度大于該第二部分在該側邊的延伸方向的寬度，且各該凸塊的 該第二部份介于與該凸塊相鄰的二凸塊其該第一部份之間，其中該軸線與 該側邊的延伸方向垂直。 【當前權利人】聯詠科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹 【家族引證次數】4.0
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