【摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種制作電容式麥克風(fēng)元件的振膜的方法。所述方法包括：提供基底，在該基底的第一表面形成介電層。接著在該介電層的表面形成多個(gè)硅間隙物。隨后圖案化該介電層，使該介電層形成多個(gè)介電凸塊，再在該介電凸塊上形成振膜層，并通過(guò)所述介電
【摘要】 一種研磨墊及其制造方法，包含一研磨墊本體，以及位于研磨墊本體內(nèi)部的至少一長(zhǎng)條形輔助壓縮體，長(zhǎng)條形輔助壓縮體的壓縮性大于研磨墊本體的壓縮性。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】智勝科技股份有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)中市西屯區(qū)工業(yè)區(qū)16路7號(hào)2樓 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】臺(tái)灣省 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610082010.X 【申請(qǐng)日】2006-05-16 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN101073880A 【公開(kāi)公告日】2007-11-21 【公開(kāi)公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN101073880B 【授權(quán)公告日】2010-08-11 【授權(quán)公告年份】2010.0 【發(fā)明人】張永忠; 張勝裕; 施文昌 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種研磨墊，包含： 一研磨墊本體；以及 至少一長(zhǎng)條形輔助壓縮體，位于研磨墊本體的內(nèi)部，其中長(zhǎng)條形輔助 壓縮體的壓縮性大于研磨墊本體的壓縮性。 【當(dāng)前權(quán)利人】智勝科技股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)中市西屯區(qū)工業(yè)區(qū)16路7號(hào)2樓 【被引證次數(shù)】4 【被他引次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】4
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