【摘要】數(shù)據(jù)由整理 。一種接觸窗開口的形成方法，此方法是先提供一基底，且此基底上至少具有一介電層。接著，在介電層上形成光阻層，然后再進(jìn)行等離子體蝕刻制程，以于光阻層中形成一第一開口，并同時在介電層中形成一第二開口。其中，第一開口位于第二開口
【摘要】 本發(fā)明涉及一種平面光源結(jié)構(gòu)，利用多個反射物設(shè)置于一第一基板上并相對于一第二基板上多個間隙物的位置，利用可見光通過擴散板、增光膜等光學(xué)膜片后，被反射或折射的光源重復(fù)與反射物作用，用以增加暗紋區(qū)的輝度，從而改善暗紋出現(xiàn)及提升整體光學(xué)的均勻性。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中華映管股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣桃園縣八德市 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610006473.8 【申請日】2006-02-09 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101017763A 【公開公告日】2007-08-15 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】H01J61/00; F21V7/22; F21V7/04; F21V13/04; G02F1/13357; F21Y105/00; F21Y105/16; G02F1/1335 【發(fā)明人】林蔚祺; 王允適; 朱國良 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種平面光源結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含： 一第一基板； 一第二基板，相對于該第一基板； 多個間隙物，其設(shè)置于該第二基板上并朝向該第一基板；以及 多個反射物，其設(shè)置于該第一基板上且相對于所述的間隙物的位 置。 ： 【當(dāng)前權(quán)利人】中華映管股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣桃園縣八德市 【被引證次數(shù)】1 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1
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