【摘要】一種移除等離子體工藝后的殘余物的方法，先提供一襯底，襯底上至少已形成有一材料層，材料層的材質(zhì)包括金屬。然后，進(jìn)行含氟等離子體工藝，于材料層表面產(chǎn)生含有前述金屬的殘余物。繼而使用清洗液進(jìn)行一濕式清洗步 驟，以移除殘余物，清洗液是由水、
【摘要】 一種大型激光雕刻機(jī)的控制調(diào)光裝置，供設(shè)置在大型激光雕刻機(jī)的機(jī)臺(tái)上，用以控制激光光路的輸出，所述的控制調(diào)光裝置是包括一調(diào)光器以及一連接線材，所述的調(diào)光器設(shè)有可控制激光管啟動(dòng)光路的控制開關(guān)，而所述的連接線材是連接在調(diào)光器與激光雕刻機(jī)的激光管控制主機(jī)之間，用以傳遞控制開關(guān)的控制訊號(hào)。。 【專利類型】實(shí)用新型 【申請人】星云電腦股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺(tái)灣 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺(tái)灣省 【申請?zhí)枴緾N200620116129.X 【申請日】2006-05-16 【申請年份】2006 【公開公告號(hào)】CN200939547Y 【公開公告日】2007-08-29 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN200939547Y 【授權(quán)公告日】2007-08-29 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號(hào)】B23K26/06; B23K26/08; B23K26/062 【發(fā)明人】張仲汀; 梁文龍; 康譽(yù)瓊 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種大型激光雕刻機(jī)的控制調(diào)光裝置，其特征在于：所述的控制調(diào)光裝置 是包括： 一調(diào)光器，其上設(shè)有可控制激光管啟動(dòng)光路的控制開關(guān)；以及 一連接線材，是連接在調(diào)光器與激光雕刻機(jī)的激光管控制主機(jī)之間，用以傳 遞控制開關(guān)的控制訊號(hào)。 【當(dāng)前權(quán)利人】星云電腦股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺(tái)灣 【被引證次數(shù)】2 【被他引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】2
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