【摘要】本實用新型為一種真空腔的改進結(jié)構(gòu)，用于半導體機臺的晶圓定位，其中該機臺所使用的載盤，可共用于沉積制程機臺與蝕刻制程機臺，當用于蝕刻制程機臺時，可以提供較精準的晶圓定位。此改進的真空腔中包括一制程室、一承載裝置、一晶圓載盤、以及一繞環(huán)
【摘要】 本發(fā)明是有關(guān)于一種錯合金屬以及光波發(fā)電發(fā)電機該光波發(fā)電由光并和發(fā)電磁波物質(zhì)具有羧基和/或氨基的金屬鹽溶液按照常規(guī)方法混合氨基和/或羧基的無機(含有機)堿或酸均勻析出而成。本發(fā)明提出的發(fā)電磁波錯合金屬，廣泛應(yīng)用于輻射、光波發(fā)電、發(fā)電磁波等技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提出的發(fā)電磁波錯合金屬在上述反應(yīng)中具有正負離子等功效及其電磁能的應(yīng)用。 ： 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】張才騰 【申請人類型】個人 【申請人地址】中國臺灣臺北市 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610066571.0 【申請日】2006-04-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101050174A 【公開公告日】2007-10-10 【公開公告年份】2007 【發(fā)明人】張才騰 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種錯合金屬，應(yīng)用于輻射、光波發(fā)電發(fā)電機、發(fā)電磁波、電磁能 裂解物質(zhì)為游離體技術(shù)中，其特征在于該錯合金屬是由一種或一種以上具 有羧基和/或氨基的一價、二價或三價金屬鹽和水按照常規(guī)方法混合，水和 氨基和/或羧基的無機、有機堿或酸和/或者無機堿均勻析出，經(jīng)反應(yīng)后，得 到的具氨基和羧基的二價錯合金屬或錯合復合金屬，其包括一種或一種以 上的錯合金屬，所述的金屬選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鐳、鎳、鉻、鉛、 銅、鐵、鋅、鈦、錳、鈷、銀、金、鉑、鈀、鎘、鋰、銣、銫、汞、錫、 鋯、鋁、鉈、銻、鉍、鍺、鎵、鉬、鎢、釔、鈧、銠、銥、鋨、釕、錸、 釩、銦、釙、鉈、鈮、鉭、鉿、鑭系和錒系的金屬鹽，其質(zhì)量百分比占錯 合金屬質(zhì)量的1～99.99％。 【當前權(quán)利人】張才騰 【當前專利權(quán)人地址】中國臺灣臺北市 【被引證次數(shù)】2 【被他引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】2
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