【摘要】一種具有帶狀發光效果的織帶結構，其包括：二個不透光帶狀組、一透光帶狀組、多個緯向的不透光線條、及一發光模塊。其中，每一個不透光帶狀組由多個經向的不透光線條所組成；該透光帶狀組設置于該二個不透光帶狀組之間，并且該透光帶狀組由多個經向的
【摘要】 本發明公開了一種相變化存儲元件及其制造方法，主要是將相變層刻蝕成一錐形結構，并將相變層上的介電層平坦化，直至露出錐形結構的頂端，由顯露出的錐形結構的頂端與加熱電極接觸。如此一來，將相變層的頂端露出的面積控制在極小尺寸內，即可縮小相變層與加熱電極的接觸面積，進而降低其操作電流。。 【專利類型】發明申請 【申請人】財團法人工業技術研究院 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】中國臺灣新竹縣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610000272.7 【申請日】2006-01-10 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101000944A 【公開公告日】2007-07-18 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101000944B 【授權公告日】2010-07-14 【授權公告年份】2010.0 【IPC分類號】H01L45/00; H01L27/24 【發明人】許宏輝; 李乾銘; 王文翰; 李敏鴻; 趙得勝; 卓言; 陳頤承; 陳維恕 【主權項內容】1、一種相變化存儲元件的制造方法，其特征在于，包括有下列步驟： 提供一第一介電層，且在該第一介電層中具有一第一電極； 在該第一介電層和該第一電極上沉積一相變層； 將該相變層刻蝕成一錐形結構，其中該錐形結構的頂端遠離該第一電極的 部位，該錐形結構的底部靠近該第一電極的部位，且該錐形結構的底部的面積 大于該錐形結構的頂端的面積； 沉積一第二介電層于該相變層上； 平坦化該第二介電層，直至露出該錐形結構的頂端；以及 在露出的該錐形結構的該頂端上形成一電極。 【當前權利人】財團法人工業技術研究院 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹縣 【引證次數】3.0 【被引證次數】19 【他引次數】3.0 【被他引次數】19.0 【家族引證次數】5.0 【家族被引證次數】19
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