【摘要】一種走線彈片結構，其安裝在主機板上，以固定線材，該走線彈片由板體一體彎折成走線部及吸附部，走線部的底板固定在主機板上，且走線部呈環狀恰能整個包覆住線材，使線材無法任意移動。在走線部一端形成有開口，使線材從開口處套入于走線部內，而吸附
【摘要】 本發明提供一種濕浸式光刻的方法、濕浸式光刻 系統、及裝置，包括：濕浸液體座架，用于包含濕浸液體；夾 片臺，用于將涂布有光致刻蝕劑的半導體晶片放置在該濕浸液 體座架內；以及鏡頭，緊鄰該濕浸液體座架并且可被放置用于 通過該濕浸液體而將影像投影在該涂布有光致刻蝕劑的半導 體晶片上。本發明所述的濕浸式光刻的方法和裝置可以使濕浸 鏡頭反應室免于遭受缺陷附著。另外，本發明可以減少鏡頭、 光致刻蝕劑、傳感器、晶片夾片臺和濕浸液體座架間的交互污 染。另外，本發明還可以減少裝置維修頻率和復雜度。另外， 本發明可以致使光致刻蝕劑表面免于遭受缺陷和水漬污染，或 降低缺陷和水漬污染。 【專利類型】發明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610095876.4 【申請日】2006-06-30 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1892433A 【公開公告日】2007-01-10 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G03F7/20 【發明人】張慶裕; 林本堅 【主權項內容】1.一種進行濕浸式光刻的方法，包括： 在濕浸式光刻系統的一個或多個表面涂布涂層，用以控制光刻系統表面 的親水性或疏水性，所述一個或多個表面用于包含濕浸液體； 該濕浸式光刻系統提供該濕浸液體；以及 使用所述具有一個或多個涂布有涂層的表面的濕浸式光刻系統，對一個 涂布有光致刻蝕劑的襯底進行濕浸式光刻。 【當前權利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市 【引證次數】8.0 【被引證次數】6 【自引次數】3.0 【他引次數】5.0 【被自引次數】1.0 【被他引次數】5.0 【家族引證次數】14.0 【家族被引證次數】15
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