【摘要】本發(fā)明涉及一種射流沖擊腦冷卻裝置。冷介質(zhì)在經(jīng)加壓泵加壓后，通過冷帽內(nèi)射流通道和口腔灌注通道高速噴出，在冷帽內(nèi)沖擊頭皮以顯著提升體表對流換熱系數(shù)，同時輔以口腔低溫液體灌注，從而迅速實現(xiàn)對腦內(nèi)目標(biāo)組織有選擇性地快速冷卻。升降床可根據(jù)需要
【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】方維行 【申請人類型】個人 【申請人地址】100085北京市海淀區(qū)上地信息產(chǎn)業(yè)基地創(chuàng)業(yè)路18號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630098524.5 【申請日】2006-10-31 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300706396D 【公開公告日】2007-11-07 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN300706396D 【授權(quán)公告日】2007-11-07 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】方維行 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】方維行 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)上地信息產(chǎn)業(yè)基地創(chuàng)業(yè)路18號
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