【摘要】1.后視圖與主視圖相同，省略后視圖； 2.右視圖與左視圖相同，省略右視圖； 3.其他視圖無設計要點，省略其他視圖。【專利類型】外觀設計【申請人】熊玉璽【申請人類型】個人【申請人地址】100089北京市海淀區廠洼路3號丹龍大廈B102
【摘要】 本發明涉及一種射流沖擊腦冷卻裝置。冷介質在經加壓泵加壓后，通過冷帽內射流通道和口腔灌注通道高速噴出，在冷帽內沖擊頭皮以顯著提升體表對流換熱系數，同時輔以口腔低溫液體灌注，從而迅速實現對腦內目標組織有選擇性地快速冷卻。升降床可根據需要隨意調整高度和角度，以滿足需要。冷卻過程中，溫度傳感器將患者體表和體核溫度反饋給計算機，治療軟件會對冷劑壓力、溫度等參數做出調整，以滿足治療需要。該過程操作十分簡便，自動化程度好，換熱效率高，且使用成本低，對人體無不利影響，在臨床應用上較為有利。與傳統腦部降溫方法相比，有顯著的高效性。。 【專利類型】發明申請 【申請人】中國科學院理化技術研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100080北京市海淀區中關村北一條2號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610083825.X 【申請日】2006-06-01 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101081187A 【公開公告日】2007-12-05 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100438839C 【授權公告日】2008-12-03 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】A61F7/10; A61F7/00 【發明人】劉靜; 項士海 【主權項內容】1、一種射流沖擊式腦冷卻裝置，包括： 冷帽(9)、制冷裝置(41)和計算機控制裝置(11)；其特征在于，所述冷帽 (9)的殼帽(92)和內帽(91)之間限定的空氣腔(93)內設有至少一個其入口 設在殼帽(92)上，出口設在內帽(91)上的射流沖擊通道(19)；所述射流沖擊 通道(1)的入口處安裝有與制冷裝置(41)的輸出端相連通的冷介質入口管；所 述殼帽(92)上設有與所述空氣腔(93)相連通的介質回流通道(39)；所述冷帽 (9)的前上端部和前下部的殼帽(92)和內帽(91)之間分別填裝有密封填充介 質(49)； 所述制冷裝置(41)的輸出端通過流量調節閥(6)與射流沖擊通道(19)上 的冷介質入口管入口相連通； 計算機控制裝置(11)的控制裝置(7)輸出端與流量調節閥(6)相連通， 以控制通過流量調節閥(6)輸出的冷量； 計算機控制裝置(11)的控制裝置(7)輸出端同時還與制冷裝置(41)相連 通，以控制制冷裝置(41)的制冷溫度； 所述介質回流通道(39)通過啟閉閥(5)與介質回流收集容器相連通或者通 過啟閉閥(5)與驅動泵(2)相連，以使回流介質參于循環使用； 在所述冷帽(9)內表面安裝有傳感器，所述傳感器與計算機控制裝置(11)的 控制裝置(7)電連接，以控制冷帽(9)內噴射流體的溫度； 所述計算機控制裝置(11)由計算機(10)、控制裝置(7)和外部接口組成， 所述計算機(10)為PC機或單片機。。 （，） 【當前權利人】中國科學院理化技術研究所 【當前專利權人地址】北京市海淀區中關村北一條2號 【統一社會信用代碼】12100000717800662F 【被引證次數】9 【被他引次數】9.0 【家族引證次數】4.0 【家族被引證次數】9
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