【摘要】一種永磁偏置內轉子徑向磁軸承的設計方法，該 方法以永磁偏置內轉子徑向磁軸承的位移剛度為出發點，以最 大承載力、飽和磁密、槽滿率為約束條件進行磁軸承設計，與 現有的以永磁體最佳工作點為目標的磁軸承設計方法相比，該 方法更有利于磁軸承的
【摘要】 1.右視圖與左視圖對稱，省略右視圖； 2.仰視圖與俯視圖對稱，省略仰視圖； 3.后視圖不常見，省略后視圖。 【專利類型】外觀設計 【申請人】白玉生; 杜煒 【申請人類型】個人 【申請人地址】100076北京市大興區西紅門路林楓家園14號樓6單元301號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】大興區 【申請號】CN200630003825.5 【申請日】2006-03-01 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3638213D 【公開公告日】2007-04-25 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3638213D 【授權公告日】2007-04-25 【授權公告年份】2007.0 【發明人】白玉生 【主權項內容】無 【當前權利人】白玉生; 杜煒 【當前專利權人地址】北京市大興區西紅門路林楓家園14號樓6單元301號;
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