【摘要】本發明公開了一種納米級庫侖島結構的制備方法，包括：A.在襯底的導電層上涂敷電子抗蝕劑；B.對涂敷的電子抗蝕劑進行前烘；C.對電子抗蝕劑進行電子束直寫曝光；D.對曝光后的抗蝕劑進行顯影；E.對顯影后的電子抗蝕劑進行定影；F.將定影后的
【摘要】 左視圖與右視圖對稱，故省略左視圖。 【專利類型】外觀設計 【申請人】楊利民 【申請人類型】個人 【申請人地址】100070北京市豐臺區南苑警備東路六號二區19排13號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】豐臺區 【申請號】CN200630306049.6 【申請日】2006-12-15 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300712300D 【公開公告日】2007-11-28 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300712300D 【授權公告日】2007-11-28 【授權公告年份】2007.0 【發明人】楊利民; 趙軍 【主權項內容】無 【當前權利人】楊利民 【當前專利權人地址】北京市豐臺區南苑警備東路六號二區19排13號
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