【摘要】一種半導體氣相外延的減壓方法及系統。方法 特征是外延氣壓在10~500托下進行外延生長,反 應后的氣體被抽走。系統特征包括出水管、噴水腔組 成的水抽氣射流循環裝置。出水管的噴水嘴在噴水 腔內。反應室與排氣管間設置了真空壓力計、調節截
【專利類型】發明申請 【申請人】中國人民解放軍長沙工程兵學院 【申請人類型】學校 【申請人地址】長沙市德雅路1116號 【申請人地區】中國 【申請人城市】長沙市 【申請號】CN90105908.0 【申請日】1990-01-23 【申請年份】1990 【公開公告號】CN90105908J 【公開公告日】1991-05-15 【公開公告年份】1991 【IPC分類號】E04H9/10; E04H9/04 【發明人】李耀東; 毛籌生; 丁學芝; 易德明; 蔡太璟; 施元龍; 劉家明 【主權項內容】無 【當前權利人】中國人民解放軍長沙工程兵學院 【當前專利權人地址】長沙市德雅路1116號
未經允許不得轉載:http://www.mhvdw.cn/1774198556.html
喜歡就贊一下






