【摘要】本發明的濕浸式光刻工藝的操作系統是依據晶片完成濕浸式光刻曝光后等候烘烤的狀況來調整將晶片導入濕浸式光刻工藝的速度，以使得已完成曝光的晶片得以有效率且即時地烘烤。【專利類型】發明申請【申請人】聯華電子股份有限公司【申請人類型】企業【申
【摘要】 一種多層式泡澡桶，其由整片式板為周邊墻板及 底板固結而成，并于墻板表面設置墻面飾板而構成多層式泡澡 桶墻面結構，其墻面是以整片式板為墻板基礎結合墻面飾板而 形成多層式的泡澡桶墻面結構。據此，可形成更佳的盛水阻隔， 而能達到更好的防止漏水效果，提供消費者更為優質的木料泡 澡桶選用余地。并且，其結構精簡易于制造組裝，可達 到大幅降低工時及節省成本。 【專利類型】實用新型 【申請人】高滄洋 【申請人類型】個人 【申請人地址】臺灣臺南市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200620000899.8 【申請日】2006-01-16 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2873056Y 【公開公告日】2007-02-28 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN2873056Y 【授權公告日】2007-02-28 【授權公告年份】2007.0 【發明人】高滄洋 【主權項內容】1.一種多層式泡澡桶，包括由整片式板構成的周邊墻板及底板，其特征在于， 所述墻板表面具有墻面飾板。。微信 【當前權利人】高滄洋 【當前專利權人地址】臺灣臺南市 【被引證次數】TRUE 【家族被引證次數】TRUE
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