【專利類型】外觀設計【申請人】葉瑞茹【申請人類型】個人【申請人地址】中國臺灣臺北市【申請人地區】中國【申請人城市】臺灣省【申請號】CN200630000360.8【申請日】2006-01-24【申請年份】2006【公開公告號】CN36070
【摘要】 本發明是有關于一種設計光罩布局與產生光罩 圖案的方法和系統，此方法包括利用復數個像素來表示光罩布 局，其中每一像素具有一光罩透明度系數。初始化一控制參數， 并產生此光罩布局的一代表。此方法透過一成本函數和一波茲 曼幾率函數(Boltzmann Probability Function)來決定是否接受光 罩布局的代表，其中成本函數與光罩布局和目標基材圖案有 關，而波茲曼幾率函數與成本函數及控制參數有關。重復產生 光罩布局的代表的步驟和決定光罩布局的代表的接受步驟，直 至穩定光罩布局。根據退火程序減少此控制參數。重復產生光 罩布局的代表的步驟、決定步驟、重做步驟、和減少控制參數 的步驟，直至最佳化此光罩布局。 【專利類型】發明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610090053.2 【申請日】2006-06-22 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1904726A 【公開公告日】2007-01-31 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN1904726B 【授權公告日】2011-03-09 【授權公告年份】2011.0 【IPC分類號】G03F1/08; G03F7/00; H01L21/00 【發明人】周碩彥; 許照榮; 高蔡勝; 林本堅 【主權項內容】數據由整理 1、一種設計光罩布局與產生光罩圖案的方法，其特征在于其包括以下 步驟： 利用復數個像素來表示該光罩布局，其中每一像素具有一光罩透明度 系數，其中所有像素的透明度系數組合成一光罩系數向量以代表光罩圖案 或布局，其中該光罩透明度系數的值是選自于一代表光罩制作技術的光罩 狀態向量；以及 利用一模擬退火法來最佳化該光罩圖案，包括 產生代表初始光罩布局的一初始光罩系數向量； 初始化一控制參數； 產生一資料矩陣； 進行一決定步驟，以透過一成本函數以及一波茲曼機率函數來決定是 否接受該光罩系數向量代表的光罩布局，其中該成本函數與光罩布局與目 標基材圖案有關，其中該波茲曼機率函數為該成本函數及控制參數的函數； 重做產生新光罩系數向量的步驟以及決定步驟，直至穩定該光罩布局； 根據一退火程序減少該控制參數；以及 重復前述的產生新光罩系數向量步驟、決定步驟、重做步驟、以及減 少控制參數的步驟，直至最佳化光罩系數向量，即最佳化光罩布局。 【當前權利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 【被引證次數】4 【被他引次數】4.0 【家族引證次數】14.0 【家族被引證次數】122
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