【摘要】本實用新型公開了一種螺栓、螺帽與墊片的接觸面結構，螺栓具有一帽體設有相對的第一面及第二面，其中，帽體的第二面為凹凸變化的粗糙面；螺帽，具有相對的第一面及第二面，其中，第一面與第二面為凹凸變化的粗糙面；墊片，具有相對的第一面及第二面，
【摘要】 本發明提供了一種浸潤式光刻裝置、光刻裝置及 其潔凈方法，所述光刻裝置包括：一成像鏡片模塊、一基板平 臺、以及一潔凈模塊。上述基板平臺是位于成像鏡片模塊下方， 以握持一基板，而上述潔凈模塊是用于潔凈光刻裝置之用，其 中該潔凈模塊是擇自超聲波單元、洗滌器、流體噴嘴、靜電潔 凈機及上述裝置的組合所組成的族群。本發明所述的浸潤式光 刻裝置、光刻裝置及其潔凈方法，減少了由污染造成的缺陷產 生以及良率降低等不良情況。 【專利類型】發明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹科學工業園區新竹市力行六路八號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610150030.6 【申請日】2006-10-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1955848A 【公開公告日】2007-05-02 【公開公告年份】2007 【發明人】張慶裕; 林進祥; 林本堅 【主權項內容】1.一種光刻裝置，其特征在于，該光刻裝置包括： 一成像鏡片模塊； 一基板平臺，位于該成像鏡片模塊下方，用于握持一基板； 以及 一可移動的潔凈模塊，用于潔凈至少該成像鏡片模塊與該基 板平臺之一，于一潔凈程序中接觸該成像鏡片模塊與該基板平臺 之一的一表面，其中該潔凈模塊是擇自超聲波單元、洗滌器、流 體噴嘴、靜電潔凈機及上述裝置的組合所組成的族群。 【當前權利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹科學工業園區新竹市力行六路八號 【被引證次數】7 【家族被引證次數】60
未經允許不得轉載：http://www.mhvdw.cn/1776830651.html
喜歡就贊一下
