【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】朱曉江【申請人類型】個人【申請人地址】22060臺灣省臺北縣板橋市南雅南路二段170號15樓之1【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】臺灣省【申請?zhí)枴緾N200630145790.9【申請日】2006-10-09【申
【摘要】 本發(fā)明提出一種修正插塞開口尺寸與形狀的方法。這個方法是對于邊界插塞開口進行校正步驟，將分別與相鄰二溝槽重疊、彼此僅間隔小于等于一特定距離的二邊界插塞開口互相遠離，使二邊界插塞開口分別位于二溝槽中，與二溝槽的兩側(cè)壁遠離。同時在各溝槽的范圍內(nèi)，放大邊界插塞開口的尺寸。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】聯(lián)華電子股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610094513.9 【申請日】2006-06-09 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101086977A 【公開公告日】2007-12-12 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】H01L21/768; H01L21/70 【發(fā)明人】林金隆; 陳明瑞; 敖振宇; 莊宏親; 蔡仁祥; 劉建新 【主權(quán)項內(nèi)容】微信 1.一種修正插塞開口尺寸與形狀的方法，適用于第一邊界插塞開口與 第二邊界插塞開口，其中該第一邊界插塞開口與該第二邊界插塞開口分別與 相鄰的第一溝槽與第二溝槽重疊，且該第一邊界插塞開口的第一邊緣與該第 二邊界插塞開口的第二邊緣的最近距離小于等于特定距離，此方法包括： 進行校正步驟，將該第一邊界插塞開口與該第二邊界插塞開口互相遠 離，使該該第一邊界插塞開口與該第二邊界插塞開口分別位于該第一溝槽與 該第二溝槽中，且該第一邊緣與該第二邊緣分別該第一溝槽與該第二溝槽的 側(cè)壁遠離，并且分別以該第一溝槽與該第二溝槽為第一范圍與第二范圍，于 該第一范圍與該第二范圍中，至少放大該第一邊界插塞開口與該第二邊界插 塞開口之一的尺寸。 【當(dāng)前權(quán)利人】聯(lián)華電子股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū) 【被引證次數(shù)】4 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】4
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