【摘要】 一種具有偵測開關設計的電連接器，包括：一絕 緣本體與一遮蔽外殼，該絕緣本體是呈中空狀而形成有一容置 空間與一開口，該遮蔽外殼，是包覆在該絕緣本體的外側；絕 緣本體的容置空間內(nèi)設有一端子組與一按壓端子，該按壓端子 是設于與開口相鄰的
【摘要】 本發(fā)明提供一種多項目晶圓(MPW)制造的光刻掩模與其制造方法和其應用所述掩模的晶圓制造方法，所述掩模包含一遮光層和至少一個可透光區(qū)域，所述掩模用以選擇MPW光罩上項目的圖案曝光到晶圓表面光阻層。所述多項目晶圓制造的光刻制程方法主要是利用配置一可以選擇MPW光罩曝光成像區(qū)域的掩模于一MPW光罩與一光刻光源或所述MPW光罩與晶圓之間的光線行進路線上，用以避免一些在所述MPW光罩上不希望制造的圖案在晶圓上被制造出來，因而降低晶圓和光刻制程的浪費。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】蔡士成 【申請人類型】個人 【申請人地址】中國臺灣彰化縣二水鄉(xiāng) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610057084.8 【申請日】2006-03-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101038435A 【公開公告日】2007-09-19 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G03F1/14; G03F7/20; H01L21/027 【發(fā)明人】蔡士成; 林榮彬 【主權項內(nèi)容】1.一種晶圓光刻掩模，搭配一光罩設于一光刻光源與一晶圓間的光線行進路線上，其 包含： 一遮光層，和 至少一個可透光區(qū)域； 其中所述可透光區(qū)域的位置和形狀可讓所述光罩上的圖案轉移到一晶圓表面的 光阻層。 【當前權利人】元智大學 【當前專利權人地址】中國臺灣桃園市中壢區(qū)遠東路135號 【被引證次數(shù)】10 【被他引次數(shù)】10.0 【家族引證次數(shù)】8.0 【家族被引證次數(shù)】14
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