【專利類型】外觀設計【申請人】李永修【申請人類型】個人【申請人地址】臺灣省臺北縣三重市安慶街284號【申請人地區】中國【申請人城市】臺灣省【申請號】CN200630138669.3【申請日】2006-10-10【申請年份】2006【公開公告
【摘要】 一種曝光機的對位光源，是在對位區相對曝光框 的對位位置下方，設置一形成背光模式的對位光源；對位光源 以陣列式的發光二極管組成；對位光源以陣列式的冷陰極管組 成。本實用新型具有令待曝光物件對位孔影像清晰的功效。。 【專利類型】實用新型 【申請人】張鴻明 【申請人類型】個人 【申請人地址】中國臺灣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200620025457.9 【申請日】2006-03-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2893747Y 【公開公告日】2007-04-25 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN2893747Y 【授權公告日】2007-04-25 【授權公告年份】2007.0 【發明人】張鴻明 【主權項內容】1、一種曝光機的對位光源，其特征在于，是在對位區相對曝光框的 對位位置下方，設置一形成背光模式的對位光源。 【當前權利人】川寶科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣桃園市蘆竹區長興路三段277巷33號 【被引證次數】1 【家族被引證次數】1
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