【摘要】本實用新型密封防爆井蓋，包括井圈和具有若干 通孔的上蓋，上蓋與井圈通過榫槽結構活動相連，榫槽結構中 裝有第一密封圈。上蓋下部裝有與其固定在一起的罩體，罩體 內裝有閥桿，閥桿的上端伸入到上蓋的中心孔中，閥桿的下端 設有與罩體相配合的導
【摘要】 一種彩色濾光片基板的返工方法。首先，置放一彩色濾光片基板于一干蝕刻反應室中。其中，彩色濾光片基板具有一電極及一待返工光間隔物(photospacer)及一待返工凸塊(protrusion)，待返工光間隔物及待返工凸塊形成于電極上。接著，在干蝕刻反應室所灌入一蝕刻氣體并執行一干蝕刻步驟，以去除待返工光間隔物及待返工凸塊。 【專利類型】發明申請 【申請人】奇美電子股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣臺南縣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610067625.5 【申請日】2006-03-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101038351A 【公開公告日】2007-09-19 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101038351B 【授權公告日】2011-03-02 【授權公告年份】2011.0 【IPC分類號】G02B5/23; G02F1/1335; G02B5/22; G02F1/13 【發明人】陳贊仁; 張智能; 林淵源 【主權項內容】1.一種彩色濾光片基板的返工方法，包括： 置放彩色濾光片基板于干蝕刻反應室中，其中，該彩色濾光片基板具有 電極、待返工光間隔物及待返工凸塊，該待返工光間隔物及該返工凸塊形成 于該電極上；以及 在該干蝕刻反應室灌入蝕刻氣體并執行干蝕刻步驟，以去除該待返工光 間隔物及該待返工凸塊。 【當前權利人】奇美電子股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣臺南縣 【被引證次數】4 【被他引次數】4.0 【家族引證次數】5.0 【家族被引證次數】4
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