【摘要】整體式屏蔽準直器，涉及輻射成像檢測技術領域。本實用新型包括左半準直器、右半準直器和屏蔽盒。其結構特點是，所述左半準直器是由左托架及與其內壁連接的左豎鉛板和左橫鉛板組成，右半準直器是由右托架及與其內壁連接的右豎鉛板和右橫鉛板組成。左半
【摘要】 本發明涉及一種提取相干梯度敏感干涉條紋級數的方法及其裝置，屬于斷裂力學參量測量的技術領域。首先將加載試件出射的平行光束分為兩路光線，分別產生相干梯度敏感干涉條紋；在兩幅相干梯度敏感干涉條紋圖中減去相應背景光強，并對其進行直方圖變換，使兩幅圖像的條紋光強的幅度相同，根據光柵間距和光強，計算第一幅干涉條紋圖的條紋級數m1。本發明的裝置包括激光器、擴束鏡、凸透鏡、半反半透鏡、四個光柵、兩組凸透鏡和光闌、兩個攝像機和計算機。本發明的優點是能夠明顯提高相干梯度敏感方法的計算精度，不要求預先知道每幅干涉條紋圖像對應的載荷，因此便于在動態斷裂實驗中應用。 【專利類型】發明授權 【申請人】清華大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】100084北京市海淀區清華園 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610001366.6 【申請日】2006-01-20 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1320340C 【公開公告日】2007-06-06 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN1320340C 【授權公告日】2007-06-06 【授權公告年份】2007.0 【發明人】姚學鋒; 許蔚; 劉棟梁 【主權項內容】權利要求書 1、一種提取相干梯度敏感干涉條紋級數的方法，其特征在于該方法包括以下步驟： (1)對一束激光進行擴束，得到發散光，再經凸透鏡成為平行光，入射到試件表面； (2)將上述試件出射的平行光束分為兩路光線，第一路光線經過間距為Δ1的第一光 柵和第二光柵，產生相干梯度敏感干涉條紋，第二路光線經過間距為Δ2的第三光柵和第四 光柵，產生相干梯度敏感干涉條紋； (3)對上述兩個干涉條紋場成像，并拍攝干涉條紋場； (4)在試件未加載前，分別從上述兩個光路拍攝試件的數字圖像，獲得干涉條紋圖的 背景光強分別為a1、a2； (5)對試件施加載荷，分別從上述兩個光路拍攝加載試件的相干梯度敏感干涉條紋圖， 兩個干涉條紋場的光強分布分別為：I1、I2； (6)從上述步驟(5)的加載試件的兩幅相干梯度敏感干涉條紋圖中減去上述步驟(4) 的相應背景光強，并對其進行直方圖變換，使兩幅圖像條紋光強的幅度相同，變換獲得的 兩個光路的干涉條紋圖光強分布為I1*和I2*； (7)根據上述光柵間距和光強，計算第一幅干涉條紋圖的條紋級數m1為：。 【當前權利人】清華大學 【當前專利權人地址】北京市海淀區清華園 【專利權人類型】公立 【統一社會信用代碼】12100000400000624D 【家族被引證次數】TRUE
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