【摘要】本實(shí)用新型涉及一種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)，屬于磁控濺射真空鍍膜機(jī)設(shè)備，主要用于各種涂層的沉積，特別是太陽選擇性吸收涂層的沉積。本實(shí)用新型包括真空室、屏蔽板和三根圓柱靶，其特征在于三根圓柱靶呈一字形排列在真空室內(nèi)，并平行于真空室門，相鄰的
【摘要】 本發(fā)明公開了一種催化氫化酰基吡啶為取代哌啶化合物鹽酸鹽的方法，本發(fā)明方法，是將式I或式II結(jié)構(gòu)的酰基吡啶在Pd－C催化劑和偕二氯烷烴的存在下，進(jìn)行催化氫化反應(yīng)，得到取代哌啶化合物鹽酸鹽；其中，R為H、烷基或芳基；所述偕二氯烷烴通式為R1R2CCl2，其中，R1、R2為H、C1－C10的烷基或有1－5個(gè)氯原子和/或氟原子取代的C1－C10烷基。本發(fā)明通過在催化體系中加入偕二氯烷烴，在溫和條件下順利地將吡啶環(huán)還原為哌啶鹽酸鹽，而且，所生成的鹽酸鹽為產(chǎn)物的分離和純化帶來諸多方便。本發(fā)明方法產(chǎn)率高、選擇性好、反應(yīng)條件溫和，并且分離過程簡(jiǎn)便。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】清華大學(xué) 【申請(qǐng)人類型】學(xué)校 【申請(qǐng)人地址】100084北京市海淀區(qū)清華園 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610144359.1 【申請(qǐng)日】2006-12-04 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN1995017A 【公開公告日】2007-07-11 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100448846C 【授權(quán)公告日】2009-01-07 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號(hào)】C07D211/22; C07D211/12; B01J23/44; C07D211/00 【發(fā)明人】胡躍飛; 程傳杰; 王歆燕; 邢立新 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種催化氫化酰基吡啶為取代哌啶化合物鹽酸鹽的方法，是將式I或式II結(jié) 構(gòu)的酰基吡啶在Pd-C催化劑和偕二氯烷烴的存在下，進(jìn)行催化氫化反應(yīng)，得到取代 哌啶化合物鹽酸鹽； (式I) (式II) 其中，R為H、烷基或芳基； 所述偕二氯烷烴通式為R1R2CCl2，其中，R1、R2為H、C1-C10的烷基或有1-5 個(gè)氯原子和/或氟原子取代的C1-C10烷基。 【當(dāng)前權(quán)利人】清華大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)清華園 【專利權(quán)人類型】公立 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000400000624D 【被引證次數(shù)】1 【被他引次數(shù)】1.0 【家族引證次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1
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