【摘要】本發(fā)明涉及一種場發(fā)射雙面顯示光源，其包括第一陽極、與第一陽極相對設(shè)置的第二陽極、設(shè)置在第一陽極和第二陽極之間的網(wǎng)狀陰極、設(shè)置在第一陽極、網(wǎng)狀陰極和第二陽極之間并使其具有一定間隔的支撐條和封裝第一陽極、網(wǎng)狀陰極、第二陽極及支撐條的邊封
【摘要】 一種用于連續(xù)帶狀基料的真空沉積薄膜裝置，可實現(xiàn)卷帶狀工料在大氣中連續(xù)放料，通過數(shù)級上行的具有兩個輥軸對滾夾緊帶狀基料的動態(tài)真空密封裝置進入一段或分段的高真空環(huán)境中進行沉積薄膜，然后再經(jīng)過下行的動態(tài)真空密封裝置返回到大氣中進行收料。所述裝置包括有收放料子系統(tǒng)、糾偏子系統(tǒng)、真空密封子系統(tǒng)、一段或分段的真空室、真空獲得子系統(tǒng)以及真空薄膜沉積子裝置，所述真空密封裝置實現(xiàn)帶狀基料由大氣進/出真空環(huán)境的動態(tài)密封。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)在帶狀基料上連續(xù)進行真空沉積薄膜涂層，具有高生產(chǎn)效率和薄膜涂層質(zhì)量穩(wěn)定的特點。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】李博峰 【申請人類型】個人 【申請人地址】100083北京市北京市海淀區(qū)海淀區(qū)北四環(huán)中路209號1－1103 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610200516.6 【申請日】2006-06-05 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101086058A 【公開公告日】2007-12-12 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】C23C14/24 【發(fā)明人】李博峰 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種用于連續(xù)帶狀基料真空沉積薄膜的裝置，主要包含有一段或 分段的真空室、一組與真空室配合的真空獲得系統(tǒng)，其特征在于：還包含一組用以動態(tài)密封 帶狀基料從大氣進/出真空室的真空密封子系統(tǒng)，提供原材料和存放產(chǎn)品的收放料子系統(tǒng)， 用來糾正帶狀基料進出真空密封裝置時產(chǎn)生偏差的糾偏子系統(tǒng)。 【當前權(quán)利人】李博峰 【當前專利權(quán)人地址】北京市北京市海淀區(qū)海淀區(qū)北四環(huán)中路209號1－1103 【被引證次數(shù)】4 【被他引次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】4
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