【摘要】本外觀設計為平面產(chǎn)品，省略后視圖。【專利類型】外觀設計【申請人】朱青生; 莊天明【申請人類型】個人【申請人地址】100871北京市海淀區(qū)北京大學朗潤園202室【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】北京市【申請人區(qū)縣】海淀區(qū)【申請?zhí)枴緾N2
【摘要】 本發(fā)明公開了屬于核技術與環(huán)境保護領域的涉及從含氰廢水中回收氰化物以處理含氰廢水的一種化學沉淀－γ－射線輻照法處理含氰廢水的方法。將鋅鹽沉淀與γ－射線降解氰化物法結(jié)合起來，首先通過向含氰廢水中加鋅鹽，沉淀回收大部分氰化物，再用γ－射線降解殘留的氰化物使廢水達標排放。該方法的高能射線處理含氰廢水效率高，可同時處理多種有毒污染物，不產(chǎn)生二次污染，是一種效能高、清潔度高的新的廢水處理技術。既可回收氰化物又可使含氰廢水的處理達到排放標準。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】清華大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】100084北京市100084－82信箱 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610169697.0 【申請日】2006-12-27 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1994934A 【公開公告日】2007-07-11 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100519445C 【授權公告日】2009-07-29 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】C02F9/04; C02F1/58; C02F9/00 【發(fā)明人】楊明德; 胡湖生; 黨杰; 張勝卓; 吳玉龍 【主權項內(nèi)容】1.一種化學沉淀-γ-射線輻照法處理含氰廢水的方法，其特征在于，采用鋅 鹽沉淀與γ射線輻照降解氰化物的工藝處理氰化貧液，其具體工藝步驟如下： 1)以氰化貧液為料液； 2)向氰化貧液中加入沉淀劑鋅鹽進行沉淀反應； 3)離心機離心分離出清液和沉淀，并過濾沉淀物Zn(CN)2； 4)在Zn(CN)2沉淀中加入約50％(體積比)含氰廢水漿化，再加入50％的 濃硫酸，酸化至pH＝2，并充氣吹脫產(chǎn)生的HCN；吹脫后液體是硫酸鋅溶液，用 石灰Ca(OH)2調(diào)節(jié)pH大于7，返回作沉淀劑循環(huán)使用； 5)用10％NaOH溶液或10％Ca(OH)2漿吸收步驟3和4中的HCN液； 6)用γ-射線對化學沉淀后液進行輻照以進一步降解氰化物。 【當前權利人】清華大學 【當前專利權人地址】北京市100084-82信箱 【專利權人類型】公立 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000400000624D 【被引證次數(shù)】7 【被他引次數(shù)】7.0 【家族引證次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】7
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