【摘要】本實用新型涉及一種氣液兩相射流相撞的霧化裝置，它是由氣體管路、氣體加壓裝置及氣體噴管和液體管路、液體加壓裝置及液體噴管組成，氣體噴管的噴口和液體噴管的噴口相對，氣體噴管的軸線和液體噴管的軸線重合設置或相距一定距離平行設置或成一定角度
【摘要】 本發明涉及一種介孔二氧化硅膜及一種抗生素制藥廢水凈化處理方法。本發明的介孔二氧化硅無機膜，孔徑小，孔徑分布較窄，制備過程無需嚴格的干燥條件就可以制得完整的無機膜。本發明提供的抗生素制藥廢水凈化處理方法，可對高濃度的抗生素制藥廢水進行處理，效果良好并具有廣泛的適用性，省去了其他廢水處理方法繁瑣的預處理過程，工藝過程簡便、高效。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京化工大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】100029北京市朝陽區北三環東路15號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN200610076696.1 【申請日】2006-04-29 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101062464A 【公開公告日】2007-10-31 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100496682C 【授權公告日】2009-06-10 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】B01D71/02; B01D69/10; C02F1/44; B01D71/00; B01D69/00 【發明人】魏剛; 鄒家龍; 熊蓉春; 陳沉; 王曉娜 【主權項內容】1.一種介孔二氧化硅膜，由多孔陶瓷支撐體材料和二氧化硅膜材料兩 層結構組成，支撐體材料的厚度為5-6mm、平均孔徑為287.3nm，孔隙率 為33.75％，二氧化硅膜材料的厚度為1-1.5μm，孔徑分布為6.7-14.4nm， 平均孔徑為9.2-10.2nm。 【當前權利人】北京化工大學 【當前專利權人地址】北京市朝陽區北三環東路15號 【統一社會信用代碼】1210000040000182XD 【引證次數】3.0 【被引證次數】10 【他引次數】3.0 【被自引次數】1.0 【被他引次數】9.0 【家族引證次數】5.0 【家族被引證次數】10
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