【專利類型】外觀設計【申請人】上海樂美文具有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】201703上海市滬青平公路2709號【申請人地區】中國【申請人城市】上海市【申請人區縣】閔行區【申請號】CN200630036339.3【申請日】2006-
【摘要】 一種AlN/SiO2納 米多層硬質薄膜，屬于陶瓷薄膜領域。本發明由AlN層和 SiO2層交替沉積在金屬或陶瓷 基底上形成，AlN層的厚度為3～6nm， SiO2層厚為0.4～1.2nm。本發明 AlN/SiO2納米多層硬質薄膜具 有SiO2被晶化并與AlN形成共 格外延生長的超晶格柱狀晶的結構特征。本發明的 AlN/SiO2納米多層硬質薄膜不 但具有優良的高溫抗氧化性，而且具有較高的硬度；其硬度高 于28GPa。最高硬度可達32GPa。本發明作為高速切削刀具及 其它在高溫條件下服役耐磨工件的涂層，具有很高的應用價 值。 【專利類型】發明申請 【申請人】上海交通大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】200240上海市閔行區東川路800號 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】閔行區 【申請號】CN200610029135.6 【申請日】2006-07-20 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1887815A 【公開公告日】2007-01-03 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100381402C 【授權公告日】2008-04-16 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】C04B41/89; C23C16/34; C23C16/40 【發明人】李戈揚; 趙文濟; 孔明; 戴嘉維 【主權項內容】1、一種AlN/SiO2納米多層硬質薄膜，其特征在于，SiO2層(1)和AlN層(2) 形成在金屬或陶瓷基體(3)上，SiO2層(1)的厚度為0.4～1.2nm，AlN層(2)的 厚度為3～6nm，AlN/SiO2納米多層硬質薄膜的總厚度為2-4μm。 【當前權利人】上海交通大學 【當前專利權人地址】上海市閔行區東川路800號 【統一社會信用代碼】1210000042500615X0 【引證次數】5.0 【被引證次數】8 【他引次數】5.0 【被自引次數】2.0 【被他引次數】6.0 【家族引證次數】7.0 【家族被引證次數】8
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