【摘要】1.請求保護的外觀設計包含有色彩。 2.本外觀設計產品為平面產品，省略其他視圖。【專利類型】外觀設計【申請人】上海聯樂實業有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】201112上海市閔行區聯星路281號【申請人地區】中國【申請人城市】
【摘要】 本發明涉及的是一種用于切削工具技術領域的 TiN/AlON納米多層涂層反應磁控濺射制備方法。分別采用直 流陰極控制的Ti靶和射頻陰極控制的 Al2O3靶，通過在Ar氣和N2氣的 混合氣氛中的反應濺射分別獲得TiN和AlON沉積層，并通過 改變各靶的濺射功率和基片輪流在各靶前的停留時間獲得具 有成分周期變化的TiN/AlON納米多層涂層。本發明提供的 TiN/AlON納米多層涂層的反應濺射制備技術具有很高的生產 效率，可以滿足具有高硬度和優異抗氧化性能、適用于高速切 削和干式切削涂層的工業規模化生產的需要。 【專利類型】發明申請 【申請人】上海交通大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】200240上海市閔行區東川路800號 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】閔行區 【申請號】CN200610116289.9 【申請日】2006-09-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1924084A 【公開公告日】2007-03-07 【公開公告年份】2007 【發明人】孔明; 李戈揚; 戴嘉維; 黃碧龍; 吳瑩 【主權項內容】1.一種TiN/AlON納米多層涂層的高效率制備技術，其特征在于：分別采 用直流陰極控制的Ti靶和射頻陰極控制的Al2O3靶，通過在Ar氣和N2氣的混合 氣氛中的反應濺射分別獲得TiN和AlON沉積層，并通過改變各靶的濺射功率和 基片輪流在各靶前的停留時間獲得具有成分周期變化的的TiN/AlON納米多層涂 層。 【當前權利人】上海交通大學 【當前專利權人地址】上海市閔行區東川路800號 【統一社會信用代碼】1210000042500615X0 【被引證次數】TRUE 【家族被引證次數】TRUE
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