【摘要】本發(fā)明公開了一種CdSe量子點(diǎn)的制備方法，屬于納米技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明首先選用CdO作為Cd源，Se粉作為Se源，使用油酸和液體石蠟分別作為CdO和Se粉的溶劑，形成Cd前體溶液和Se前體溶液，油酸同時(shí)作為生成的量子點(diǎn)的穩(wěn)定劑，其后將C
【摘要】 一種ZrO2/TiN硬 質(zhì)納米多層涂層，屬于陶瓷涂層領(lǐng)域。本發(fā)明由 ZrO2層和TiN層交替沉積在硬 質(zhì)合金、陶瓷或金屬基底上形成， ZrO2層的厚度為2～8nm，TiN 層厚為0.4～1.2nm，涂層總厚度為2～5μm。本發(fā)明的 ZrO2/TiN納米多層涂層采用在 氬氣氛中的雙靶濺射技術(shù)在拋光的金屬或陶瓷基體表面交替 沉積ZrO2層和TiN層得到。本 發(fā)明所得的ZrO2/TiN納米多層 涂層不但具有優(yōu)異的高溫抗氧化性，而且具有19.1GPa至 23GPa的硬度。本發(fā)明作為高速切削刀具及其它在高溫條件下 服役耐磨、耐腐蝕工件的涂層，具有很高的應(yīng)用價(jià)值和推廣的 可能性。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海交通大學(xué) 【申請人類型】學(xué)校 【申請人地址】200240上海市閔行區(qū)東川路800號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610029133.7 【申請日】2006-07-20 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1888124A 【公開公告日】2007-01-03 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100443625C 【授權(quán)公告日】2008-12-17 【授權(quán)公告年份】2008.0 【IPC分類號】C23C14/06; C23C14/35 【發(fā)明人】李戈揚(yáng); 劉艷; 岳建嶺; 孔明; 戴嘉維 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種ZrO2/TiN硬質(zhì)納米多層涂層，其特征在于，ZrO2層和TiN層形成 在金屬或陶瓷基體上，TiN層的厚度為0.4～1.2nm，ZrO2層的厚度為2.5～8nm， ZrO2/TiN硬質(zhì)納米多層涂層的總厚度為2～5μm。 【當(dāng)前權(quán)利人】上海交通大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)東川路800號 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】1210000042500615X0 【引證次數(shù)】5.0 【被引證次數(shù)】19 【他引次數(shù)】5.0 【被他引次數(shù)】19.0 【家族引證次數(shù)】6.0 【家族被引證次數(shù)】19
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