【摘要】 省略其它視圖。 展開狀態參考圖 【專利類型】外觀設計 【申請人】上海中華日用化工實驗所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】225443江蘇省泰興天橋 【申請人地區】中國 【申請人城市】泰州市 【申請人區縣】泰興市 【申請號】CN91301523.7 【申請日】1991-07-04 【申請年份】1991 【公開公告號】CN3011745S 【公開公告日】1991-12-18 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN3011745S 【授權公告日】1991-12-18 【授權公告年份】1991.0 【發明人】凌晨 【主權項內容】無 【當前權利人】上海中華日用化工實驗所 【當前專利權人地址】江蘇省泰興天橋
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【摘要】1.平面產品，省略其他視圖。 2.單元圖案四方連續。 3.請求保護的外觀設計包含色彩。【專利類型】外觀設計【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】201114上海市閔行區浦江鎮立躍路519號【申請人地區】中
【摘要】一種復合保溫隔熱混凝土墻體135度轉角模板，由135度折角的內側模板和與之平行的外側模板組合而成，內側模板和外側模板的材質為聚苯乙烯保溫材料，在內側模板與外側模板之間，每隔一段有一組對拉鋼骨架；每組對拉鋼骨架包括分別預埋在內側模板和
【摘要】1.本外觀設計是紡織物，省略后視圖； 2.單元圖案四方連續，無限定邊界； 3.請求保護的外觀設計包含色彩。【專利類型】外觀設計【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】201114上海市閔行區浦江鎮立躍路51
【摘要】本外觀設計產品的設計要點集中在主視圖、后視圖中，其他視圖無 設計要點，省略其他視圖。 （來源 馬克數據網）【專利類型】外觀設計【申請人】衣戀時裝(上海)有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】200241上海市閔行區龍吳路5888號
【摘要】本發明公開了一種單晶InP方形納米孔陣列的制備方法，屬于納米技術領域。本發明利用兩步化學刻蝕方法，包括電化學刻蝕過程和無電濕法刻蝕過程，首先為電化學刻蝕過程，包括InP單晶片樣品的準備、電拋光和多孔陣列刻蝕，其后為無電濕法刻蝕過程，
【專利類型】外觀設計【申請人】葉建敏【申請人類型】個人【申請人地址】201105上海市閔行區滬青平公路1279號【申請人地區】中國【申請人城市】上海市【申請人區縣】閔行區【申請號】CN200630138511.6【申請日】2006-10-1
