【專利類型】外觀設計【申請人】上海環達計算機科技有限公司; 神達電腦股份有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】200436上海市閘北區江場三路213號【申請人地區】中國【申請人城市】上海市【申請人區縣】靜安區【申請號】CN20063003
【摘要】 本發明屬于物理氣相沉積工藝中碳氮化鈦離子 鍍層工藝?，F有的裝飾鍍層工藝是只解決和改進某 種特定的單一色調的工藝。而本發明將表面色調與 界面結合力等技術統一，采用變參數分層過渡和多元 色調的獨特工藝，獲得了金色、紫色、褐色、槍色、黑色 等系列外觀色調，同時保證具有優良的界面結合力。 本工藝可適用于以鐵、鋼、銅、鋁以及鋁合金及其相似 的金屬為基材的鐘表、眼鏡、文具、首飾、五金和手工 藝品等各種裝飾鍍層。 【專利類型】發明申請 【申請人】中國科學院電工研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100080北京市海淀區中關村 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN91102459.X 【申請日】1991-04-20 【申請年份】1991 【公開公告號】CN1055957A 【公開公告日】1991-11-06 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1021836C 【授權公告日】1993-08-18 【授權公告年份】1993.0 【IPC分類號】C23C14/16; C23C14/24; C23C14/06; C23C14/32 【發明人】楊鐵三; 黃經筒; 游本章; 齊克修; 吳振華 【主權項內容】1、一種碳氮化鈦鍍層離子鍍工藝，其特征在于采用碳、氮、鈦三元調色，變參數分層過渡工藝，適用于以金屬為基材的碳氮化鈦系列鍍層的離子鍍工藝方法，這種方法包括， (1)每種顏色的碳氮化鈦鍍層對應于每種確定的鈦、氮、碳最佳配比， 確定的鈦蒸發速率(以蒸發源電流值表征)， 確定的鍍層真空度(以N2+C2H2分壓表征)， 確定的N2和C2H2(或CH4)比率(分別以流量值表征)， (2)整個鍍層分為2+i個層次，變參數分層過渡連續完成，第一層先鍍鈦，第二層鍍氮化鈦，以后i層鍍碳氮化鈦，N2流量由(N2)1變為(N2)i，隨顏色變深而逐漸減小，C2H2流量由(C2H2)1變為(C2H2)i，隨顏色變深而逐漸增大，最后一層碳氮化鈦對應于所要求顏色的鈦、氮、碳最佳配比， (3)在分層過渡中，前幾層選用較大蒸發源電流和較高偏壓，最后幾層則選用較小蒸發源電流和較低偏壓。 【當前權利人】北京中科電氣高技術公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區中關村北二條6號 【統一社會信用代碼】121000004000124147 【引證次數】9.0 【被引證次數】20.0 【他引次數】9.0 【被自引次數】1.0 【被他引次數】19.0 【家族引證次數】9.0 【家族被引證次數】20.0
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