【摘要】右視圖與左視圖對稱，省略右視圖。【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請人】陳杰; 唐震【申請人類型】個(gè)人【申請人地址】226408江蘇省如東縣豐利鎮(zhèn)新建東路16號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】南通市【申請人區(qū)縣】如東縣【申請?zhí)枴緾N90302
【摘要】 大面積紫外光刻(曝光)機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)。本實(shí)用新型涉及一種紫外光刻(曝光)設(shè)備，特別 是用于接觸/接近式大面積紫外光刻(曝光)機(jī)的光 學(xué)系統(tǒng)。由于采用了可將輻照面內(nèi)輻照不均勻度與 曝光過程中產(chǎn)生的曝光不均勻度互相補(bǔ)償?shù)呐紨?shù)光 通道光學(xué)積分器和復(fù)合高次非球面的聚光鏡，使得在 增大有效輻照面積的同時(shí)提高了曝光均勻度。為液 晶顯示器，特別是液晶電視技術(shù)中的關(guān)鍵器件有源矩 陣液晶顯示器的研制提供了有效手段。它還適用于 大規(guī)模集成電路和精密印刷電路板的制作及太陽紫 外輻照模擬實(shí)驗(yàn)等方面。 【專利類型】實(shí)用新型 【申請人】中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】130022吉林省長春市斯大林大街112號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】長春市 【申請人區(qū)縣】南關(guān)區(qū) 【申請?zhí)枴緾N90218131.9 【申請日】1990-08-15 【申請年份】1990 【公開公告號】CN2074024U 【公開公告日】1991-03-27 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN2074024U 【授權(quán)公告日】1991-03-27 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號】G03F7/20 【發(fā)明人】仲躋功 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、用于紫外光刻(曝光)機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)，由聚光鏡1、光源2、濾光片3、光學(xué)積分器4、曝光快門5和準(zhǔn)直透鏡6組成，光學(xué)積分器4的入射端位于聚光鏡1的第二參考面上，出射端位于準(zhǔn)直透鏡6的焦面上，其特征在于光學(xué)積分器4的光通道數(shù)目為偶數(shù)，其組合通光口徑最好采用正方形。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】吉林省長春市斯大林大街112號 【被引證次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1.0
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載：http://www.mhvdw.cn/1774186556.html
喜歡就贊一下
