【摘要】本發明屬于薄膜沉積設備，是真空電弧離子鍍膜 機的核心部件。采用電磁線圈磁場控制電弧弧斑在 陰極表面上的運動軌跡和速度，顯著減少了蒸發源發 射的金屬液滴，提高了鍍膜質量。蒸發源在200A以 上的大電弧電流和與之相匹配的磁場下工作時，電
【摘要】 一種新型液壓密封油缸，包括有前端蓋1，缸體 6，活塞桿22，活塞8和后端蓋，其特征在于活塞8上 帶有凹形環槽23，它與缸體6的內壁之間形成一容 置的空間，環槽23內設置一孔24與活塞體內安裝 的單向閥16a相通，活塞8上環槽23的兩側安裝有 組合密封圈13和15，在缸體前端裝有塞頭2，塞頭2 與活塞桿22之間安裝有組合密封圈。 更多數據：搜索馬克數據網來源：www.macrodatas.cn 【專利類型】實用新型 【申請人】叢學沂; 劉成華 【申請人類型】個人 【申請人地址】100081北京市海淀區西郊佟家墳流體密封研究所 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN90209722.9 【申請日】1990-07-07 【申請年份】1990 【公開公告號】CN2072614U 【公開公告日】1991-03-06 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN2072614U 【授權公告日】1991-03-06 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】F15B15/17; F15B15/00 【發明人】叢學沂; 劉成華 【主權項內容】1、一種液壓密封油缸，包括有前端蓋1，缸體6，活塞桿22，活塞8和后端蓋，其特征在于活塞8上帶有凹形環槽23，它與缸體6的內壁之間形成一容置的空間，環槽23內設置一孔24與活塞體內安裝的單向閥16a相通；活塞8上環槽23的兩側安裝有組合密封圈13和15，在缸體前端裝有塞頭2，塞頭2與活塞桿22之間安裝有組合密封圈。 【當前權利人】叢學沂; 劉成華 【當前專利權人地址】北京市海淀區西郊佟家墳流體密封研究所; 【被引證次數】8.0 【被他引次數】8.0 【家族被引證次數】8.0
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