【摘要】本發明屬于光學儀器系統領域的一種檢測光束 準直的剪切干涉儀。用于光學與激光工程，光學與激 光實驗中光束準直的檢測。由入射光闌屏、帶有楔角 的可以旋轉360°的剪切干涉平板和圖形觀測屏三 部分組成。這三部分既可以設計成一體式的，也可以
【摘要】 一種等離子割炬，特別是數控等離子割炬，由電極、噴嘴及其電路系統、氣路系統及水路系統組成，主要技術特征及其效果是：(1)使壓力水流冷卻電極與噴嘴后，分別通過下噴嘴、壓蓋與外套形成內、外兩層管狀水流，包圍弧柱，噴到割件上，既有效地進行了消煙、除塵、遮光，又充分地冷卻了割件。(2)使電極為雙錐度的錐體，既保證了起弧可靠，又消除了“雙弧”現象。(3)使管接頭以軸向布置在割炬上端部，并用絕緣蓋蓋住，既美觀，又安全。 【專利類型】發明授權 【申請人】核工業第六研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】湖南省衡陽市13號信箱 【申請人地區】中國 【申請人城市】衡陽市 【申請號】CN89105657.2 【申請日】1989-01-17 【申請年份】1989 【公開公告號】CN1014126B 【公開公告日】1991-10-02 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1014126B 【授權公告日】1991-10-02 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】B23K10/00; B23K9/12 【發明人】歐陽群發 【主權項內容】1、一種等離子割炬，包括下噴嘴(1)、壓蓋(2)、上噴嘴(4)、電極 (5)、管接頭(15、17、18)，其中冷卻噴嘴(1、4)的壓力水流， 由管接頭(15)進入套管(6)內腔，至上噴嘴(4)和下噴嘴(1)之間的環形空腔， 又經上噴嘴(4)端部螺旋槽，下噴嘴(1)孔底的環形槽，由下噴嘴(1)上的 出水孔(1-α)噴出，形成第一層管狀水流，包圍弧柱，噴到割件 上，其特征是冷卻電極(5)的壓力水流，由管接頭(17)進入，經裝在陰極 管(13)中的水針管(8)下端，至利用螺紋連接在陰極管(13)下端的電極(5)， 然后沿水針管(8)與陰極管(13)之間的空腔上升，橫穿陰極管(13)的出水孔 (13-α)，進入陰極管(13)與絕緣套(11)之間的環形槽(13-b)、又橫穿 絕緣套(11)的出水孔(11-α)，進入絕緣套(11)與外套(10)之間的空腔，沿 著利用螺紋連接在絕緣套(11)下端的套管(6)與外套(10)之間的空腔，通過 利用螺紋連接在套管(6)下端的壓蓋(2)外圓柱面上的多個出水槽(2-α)， 形成第二層管狀水流包圍弧柱，流到割件上。 【當前權利人】核工業第六研究所 【當前專利權人地址】湖南省衡陽市13號信箱 【引證次數】1.0 【他引次數】1.0 【家族引證次數】1.0 【家族被引證次數】4.0
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