【專利類型】外觀設計【申請人】馬準勝【申請人類型】個人【申請人地址】中國臺灣【申請人地區】中國【申請人城市】臺灣省【申請號】CN200630015065.X【申請日】2006-04-17【申請年份】2006【公開公告號】CN3629852D
【摘要】 一種等離子平面光源結構，包括第一基板、多條第一電極線、多個介電圖案、介電層、第一熒光材料層、第二基板以及密封物。第一基板具有發光區與包圍發光區之周邊區。第一電極線設置于第一基板上，且從周邊區延伸至發光區。介電圖案設置于第一基板上，且每一介電圖案會覆蓋其中一第一電極線。介電層覆蓋第一基板的周邊區，其中介電層中具有貫孔，且此貫孔還貫穿第一基板。第一熒光材料層設置于這些介電圖案的表面上。第二基板設置于第一基板的上方。密封物設置于第一基板與第二基板之間，且位于第一基板與第二基板之邊緣。 【專利類型】發明申請 【申請人】中華映管股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省臺北市中山北路三段二十二號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610007810.5 【申請日】2006-02-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101025514A 【公開公告日】2007-08-29 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100468168C 【授權公告日】2009-03-11 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】G02F1/13357; G02F1/1333; H01J61/00; H01J17/49; G02F1/1335 【發明人】張昭仁; 呂德助 【主權項內容】1.一種等離子平面光源結構，其特征是包括： 第一基板，具有發光區與包圍該發光區之周邊區； 多條第一電極線，設置于該第一基板上，且從該周邊區延伸至該發光 區； 多個介電圖案，設置于該第一基板上，任一上述這些介電圖案會覆蓋 任一上述這些第一電極線； 介電層，覆蓋該第一基板的該周邊區，其中該介電層中具有貫孔，且 該貫孔還貫穿該第一基板； 第一熒光材料層，設置于上述這些介電圖案的表面上； 第二基板，設置于該第一基板的上方；以及 密封物，設置于該第一基板與該第二基板之間，且位于該第一基板與 該第二基板之邊緣。 【當前權利人】華映科技(集團)股份有限公司 【當前專利權人地址】福建省福州市馬尾區儒江西路6號 【被引證次數】3 【被自引次數】2.0 【被他引次數】1.0 【家族引證次數】7.0 【家族被引證次數】3
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