【摘要】一種積層式被動元件的絕緣結(jié)構(gòu)及其制作方法，是在積層式被動元件的表面上制作一絕緣保護(hù)膜，經(jīng)溫度處理后，外電極下方的絕緣保護(hù)膜將轉(zhuǎn)變成半導(dǎo)體導(dǎo)體，而其它區(qū)域的絕緣保護(hù)膜仍在本體表面呈現(xiàn)絕緣體狀態(tài)，這樣，不但制程簡易，同時還能保護(hù)被動元件
【摘要】 本實用新型提供一種記憶卡連接器裝置，包括 有：一基座以及一退卡座，所述基座以金屬材質(zhì)制成，所述基 座二側(cè)分別延伸有一第一側(cè)面以及一第二側(cè)面，且前述第一側(cè) 面具有一導(dǎo)引槽。所述退卡座以金屬材質(zhì)制成，所述退卡座更 包括有一底面以及前述底面一側(cè)延伸出有一側(cè)靠面，前述側(cè)靠 面具有至少一導(dǎo)勾。其中，前述導(dǎo)勾置入前述導(dǎo)引槽中，且使 前述底面貼靠所述基座，且前述側(cè)靠面貼靠前述第一側(cè)面，將 所述退卡座以及所述基座連接成一體。本實用新型記憶卡連接 器裝置以金屬制作退卡機(jī)構(gòu)，使退卡時磨耗減少，延長耐久度， 且運用特殊滑軌機(jī)構(gòu)，使記憶卡連接器裝置組裝容易，且滑動 動作確實。 【專利類型】實用新型 【申請人】林于煉 【申請人類型】個人 【申請人地址】臺灣省臺北縣板橋市民生路1段28－1號15樓 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200620040249.6 【申請日】2006-03-16 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2879460Y 【公開公告日】2007-03-14 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN2879460Y 【授權(quán)公告日】2007-03-14 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】林于煉 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種記憶卡連接器裝置，其特征在于： 所述記憶卡連接器裝置包括有： 一基座，為金屬材質(zhì)所制成，所述基座二側(cè)分別延伸有一第一側(cè)面以 及一第二側(cè)面，且前述第一側(cè)面具有一導(dǎo)引槽； 一退卡座，為金屬材質(zhì)所制成，所述退卡座更包括有一底面以及前述 底面一側(cè)延伸出有一側(cè)靠面，前述側(cè)靠面具有至少一導(dǎo)勾； 其中，前述導(dǎo)勾置入前述導(dǎo)引槽中，且使前述底面貼靠所述基座，且 前述側(cè)靠面貼靠前述第一側(cè)面，將所述退卡座以及所述基座連接成 一體。 【當(dāng)前權(quán)利人】林于煉 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】臺灣省臺北縣板橋市民生路1段28－1號15樓 【被引證次數(shù)】1 【被自引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載：http://www.mhvdw.cn/1776756256.html
喜歡就贊一下
