【摘要】本實用新型提供一種貨柜用補強型內襯袋，包含至少一層主體層，以及一個粘貼單元。該主體層包括多個相互配合界定出一個容室的隔絕壁，每一個隔絕壁具有多個對折熱壓邊，以及多個分別鄰近所述對折熱壓邊的對折部，所述對折熱壓邊相互熱壓連接。該粘貼單
【摘要】 數據由整理 。一種接觸窗開口的形成方法，此方法是先提供一基底，且此基底上至少具有一介電層。接著，在介電層上形成光阻層，然后再進行等離子體蝕刻制程，以于光阻層中形成一第一開口，并同時在介電層中形成一第二開口。其中，第一開口位于第二開口上方，且第一開口的底部孔徑小于第二開口的頂部孔徑。之后，將光阻層從介電層上移除。依此方法可形成暴露出至少有一部分不會被氧化的接觸窗開口，以避免此導電圖案與填入接觸窗開口的導電層間的阻值過高。 【專利類型】發明申請 【申請人】中華映管股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省臺北市中山北路三段二十二號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610091526.0 【申請日】2006-06-06 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101086976A 【公開公告日】2007-12-12 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】H01L21/768; H01L21/311; H01L21/70; H01L21/02 【發明人】紀盈州; 王榮鐸; 杜英宗; 徐朝煥 【主權項內容】1.一種接觸窗開口的形成方法，包括： 提供一基底，該基底上至少具有一介電層； 于該介電層上形成一光阻層，其中該光阻層具有一第一開口； 以該光阻層為掩模進行一等離子體蝕刻制程，以于該介電層中形成一第二開 口，其中該第一開口的底部孔徑小于該第二開口的頂部孔徑；以及 移除該光阻層。 【當前權利人】中華映管股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省臺北市中山北路三段二十二號 【被引證次數】3 【被他引次數】3.0 【家族被引證次數】3
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